
삼성, ASML 차세대 극자외선 장비 '3년 후 확보' 왜?
삼성전자가 세계 최대 반도체 장비 업체인 네덜란드 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광장비 '하이(High) NA EUV' 확보가 다소 늦어질 수도 있을 것이라는 전망이 나왔다. ASML은 반도체 미세공정에 필수적인 EUV 노광장비를 독점 생산하는 글로벌 업체다. EUV는 7나노미터(㎚, 1나노미터는 10억분의 1m) 이하의 미세회로를 새기는 등 초미세 반도체 공정 구현에 꼭 있어야 하는 장비다. 18일 업계에 따르면 인텔은 지난해 말부터 올해