삼성전자, 올해 시설투자 54조···투자비 5.8조 늘렸다

반도체 47.7조, 디스플레이 3조

반도체 인프라 및 증설·공정전환 투자

디스플레이 중소형 OLED 증설

삼성전자는 27일 주력 사업 경쟁력 강화를 위해 올해 약 54조원 규모의 시설투자를 계획하고 있다고 밝혔다. 이는 지난해 투입한 48조2000억원 대비 5조8000억원가량 올려잡은 것이다.

세부적으로 보면 반도체(DS)부문 47조7000억원, 디스플레이(SDC) 3조원 수준이다.

올해 주요 사업 시설투자를 보면 반도체 부문은 미래 대응 위한 메모리, 파운드리 인프라 투자 및 선단공정 생산능력 확대를 위한 증설·공정전환 투자 등이다. 디스플레이 부문은 중소형 OLED 증설 및 인프라 투자를 진행한다.

삼성전자는 기대효과로 "부품 사업 중심 기술 리더십 강화를 통한 사업 역량 제고"라고 밝혔다.

메모리의 경우 평택 3, 4기 인프라와 중장기 시장경쟁력 강화를 위한 EUV(Extreme Ultra-Violet, 극자외선) 등 첨단 기술 중심 투자가 예상된다.

파운드리는 '쉘 퍼스트(Shell First)' 전략으로 수요에 신속하고 탄력적으로 대응한다는 방침 하에 EUV 첨단 공정 수요 대응을 위한 미국 테일러와 평택 생산능력 확대를 중심으로 투자가 집행될 예정이다. 쉘 퍼스트는 클린룸을 선제적으로 건설하고, 향후 시장 수요와 연계한 탄력적인 설비 투자로 안정적인 생산 능력을 확보해 고객 수요에 적극 대응한다는 의미다.

디스플레이는 중소형 플렉시블 생산능력 확대와 대형 QD-OLED 생산 효율성 제고에 투자가 집중될 계획이다.

삼성전자는 이날 3분기 시설투자액도 함께 공개했다. 3분기 시설투자액은 총 12조7000억원이며 사업별로는 DS 11조5000억원, SDC 5000억원 수준이다.

3분기 누계로는 33조원이 집행됐으며 DS 29조1000억원, SDC 2조1000억원 정도다.