삼성전자가 네덜란드 반도체 장비업체 ASML과 손잡고 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발에 나선다. 이는 High NA EUV 장비의 활용성을 높이기 위함으로, 2028년까지 이를 첨단 D램 제조공정에 적용할 계획이다. High NA EUV는 더 적은 횟수로 미세한 회로를 그릴 수 있어 생산성 향상과 제조비용 절감이 기대된다. 삼성전자는 ASML과의 협력을 통해 AI 반도체 시대에 필요한 기술력을 확보하려 한다.
구자균 LS일렉트릭 회장이 북미 시장 검토 및 추가 성장 기회 발굴을 위해 미국행 비행기에 올랐다. 그는 텍사스주 배스트럽 공장에서 열린 전략 워크숍 회의를 주재하며 현지 생산능력 확대와 북미 AI 데이터센터 시장 대응 방안을 논의할 예정이다. 구 회장은 올해 상반기 북미에서 1조2000억원의 신규 사업을 수주하며 높은 성장세를 이어가고 있어 이번 방문은 전략적 중요성을 가진다.
삼성전자가 네덜란드의 ASML과 협력해 차세대 반도체 노광 기술 확보에 나선다. 삼성전자는 ASML 주도의 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 12인치 포토마스크를 공동 개발하고 첨단 D램 제조에 High NA EUV를 2028년 도입할 계획이다. 포토마스크 기술 향상을 통해 생산성을 높이고 제조비용을 줄이려는 삼성전자는 ASML과의 협력을 강화해 차세대 반도체 제조 혁신을 이어가려 한다.
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