전기·전자
삼성, ASML과 차세대 노광 승부···6→12인치 포토마스크 개발(종합)
삼성전자가 네덜란드 반도체 장비업체 ASML과 손잡고 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발에 나선다. 이는 High NA EUV 장비의 활용성을 높이기 위함으로, 2028년까지 이를 첨단 D램 제조공정에 적용할 계획이다. High NA EUV는 더 적은 횟수로 미세한 회로를 그릴 수 있어 생산성 향상과 제조비용 절감이 기대된다. 삼성전자는 ASML과의 협력을 통해 AI 반도체 시대에 필요한 기술력을 확보하려 한다.





