(공시)테스, 반도체 소자의 갭필 방법 관련 특허 취득

테스는 반도체 소자의 갭필 방법에 대한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다. 이는 오버행 현상이 발생하거나 공정원료 가스에 산소를 포함시키는 경우 갭 패턴에 보이드(void)가 생성되는 것을 감소시키는 기술이다.

회사 측은 "장비 제조시 특허기술 적용을 통해 제품경쟁력을 강화할 계획”이라고 밝혔다.


김민수 기자 hms@