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삼성, ASML과 차세대 노광 승부···6→12인치 포토마스크 개발(종합)

삼성전자가 네덜란드 반도체 장비업체 ASML과 손잡고 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발에 나선다. 이는 High NA EUV 장비의 활용성을 높이기 위함으로, 2028년까지 이를 첨단 D램 제조공정에 적용할 계획이다. High NA EUV는 더 적은 횟수로 미세한 회로를 그릴 수 있어 생산성 향상과 제조비용 절감이 기대된다. 삼성전자는 ASML과의 협력을 통해 AI 반도체 시대에 필요한 기술력을 확보하려 한다.

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삼성·ASML, 차세대 반도체 동맹 강화···12인치 포토 마스크 공동개발

삼성전자가 네덜란드의 ASML과 협력해 차세대 반도체 노광 기술 확보에 나선다. 삼성전자는 ASML 주도의 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 12인치 포토마스크를 공동 개발하고 첨단 D램 제조에 High NA EUV를 2028년 도입할 계획이다. 포토마스크 기술 향상을 통해 생산성을 높이고 제조비용을 줄이려는 삼성전자는 ASML과의 협력을 강화해 차세대 반도체 제조 혁신을 이어가려 한다.

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SK하이닉스, D램 양산용 '차세대 노광장치' 도입···"업계 첫 사례"

SK하이닉스가 네덜란드 ASML의 최신 High NA EUV 노광장치 트윈스캔 EXE:5200B를 업계 최초로 이천 M16팹에 도입했다. 기존 EUV 대비 1.7배 높은 정밀도와 2.9배 높은 집적도로 D램 등 메모리 반도체 생산 경쟁력을 강화하며, 고부가가치 시장과 AI 메모리 산업에서 선도적 입지를 다질 계획이다.

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[와! 테크]삼성전자 위협하는 인텔, '괴물 EUV' 도입한 배경

미국의 인텔이 '하이 NA EUV(극자외선) 장비'를 공급받았다. 현재 최선단 공정인 3나노(1㎚=10억분의 1m)를 건너뛰고 2나노부터 1.8나노까지 하이 NA EUV를 활용할 예정이다. '괴물 EUV'로 평가되는 이 장비는 극소수만 생산되고 있으며 인텔은 경쟁사보다 앞서 6대를 우선 확보한 것으로 알려졌다. 반도체 성능이 2년마다 2배로 개선되는 '무어의 법칙'에 한계가 따른다는 지적이 나오고 있으나 인텔은 일각의 시선을 뒤집기 위해 하이 NA EU

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삼성전자-ASML, EUV 공동 연구소 만든다···미세공정 혁신 주도

삼성전자가 '슈퍼 을'로 불리는 네덜란드 반도체 장비기업 ASML과 초미세 공정 개발에 나선다. 양 사가 국내에서 극자외선(EUV) 기술을 공동 개발하며 국내 반도체 생태계 조성과 경쟁력 강화에도 속도가 붙을 전망이다. 삼성전자와 ASML은 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 열린 한국-네덜란드 반도체 협력 협약식에서 차세대 메모리 노광장비 개발을 위한 EUV 공동연구소 설립에 대한 업무협약(MOU)를 체결했다. EUV 공동

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"中, 7나노 반도체 생산"···삼성 파운드리 영향은

미국이 대(對)중국 반도체 수출 규제를 강화하고 있음에도 중국이 첨단 반도체를 양산했다는 분석이 나온다. 미국의 제재가 물거품이라는 평가까지 나오면서 파운드리(위탁생산) 업계에 미치는 영향에 관심이 쏠린다. 다만 전문가들은 이번 반도체는 구식 공정을 적용했다고 설명하며 초미세 공정까지 기술 로드맵을 끌어올린 삼성전자에 별다른 영향이 없을 것으로 내다봤다. 4일 워싱턴포스트(WP)에 따르면 화웨이가 지난달 29일 출시한 스마트폰 '메

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55년 역사 뒤집는 인텔, "삼성 파운드리 영향 제한적"

"지난 55년 역사상 가장 중요한 비즈니스 혁신을 시작한다" 파운드리(위탁생산) 사업에 사활을 걸고 있는 인텔이 내부정리에 나섰다. 파운드리를 별도 사업부로 독립시키고 자체 칩 생산 물량을 몰아줘 업계 2위로 발돋움하겠다는 계산이다. 세계 2위 파운드리 사업자인 삼성전자를 직접 겨냥한 행보다. 인텔은 이를 1968년 창립 이래 가장 중요한 혁신이라고 평가했다. 그만큼 파운드리가 회사의 명운을 결정짓는 사업이라는 얘기다. 현재 인텔은 세계 1위

삼성, ASML 차세대 극자외선 장비 '3년 후 확보' 왜?

삼성전자가 세계 최대 반도체 장비 업체인 네덜란드 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광장비 '하이(High) NA EUV' 확보가 다소 늦어질 수도 있을 것이라는 전망이 나왔다. ASML은 반도체 미세공정에 필수적인 EUV 노광장비를 독점 생산하는 글로벌 업체다. EUV는 7나노미터(㎚, 1나노미터는 10억분의 1ｍ) 이하의 미세회로를 새기는 등 초미세 반도체 공정 구현에 꼭 있어야 하는 장비다. 18일 업계에 따르면 인텔은 지난해 말부터 올해

'슈퍼을' ASML CEO "5년간 2400억 투자···韓 협력사 늘린다"

"화성 캠퍼스를 통해 한국에서의 협력사 기반이 더욱 확대될 것으로 예상됩니다. 반도체 산업과 AMSL이 함께 성장을 하고 있기 때문에 앞으로 더 많은 협력사가 필요하고 한국은 협력사를 찾기에 매우 우수한 나라입니다." 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)가 경기도 화성 반도체 클러스트 구축을 통해 한국 반도체 기업과 협업이 확대될 것이라고 15일 밝혔다. 초미세 공정 핵심 역할을 해 '슈퍼을'이라 불리는 네덜란드 반도체 장비 기업 A