[컨콜]SK하이닉스 “2019년 이후 10나노 초반 공정부터 EUV 도입”

SK하이닉스는 25일 지난해 4분기 실적 발표 컨퍼런스콜에서 “2019년 이후에 10나노 초반대(1z)부터 극자외선(EUV) 노광장비를 도입할 것으로 본다”면서 “현재는 연구개발 단계에서 사용 중이며 EUV 장비가 하루에 2000장 이후의 웨이퍼 처리량이 되어야 경제성을 확보할 것”이라고 말했다.

그러면서 “빠른 시일 내에 EUV 사용으로 상당한 비트그로스는 기대하기 힘들다”고 부연했다.