(공시)SK하이닉스, 7조원 시설투자 결정

SK하이닉스는 올해 투자계획에 대해 “본원적 기술 경쟁력 강화를 목표로 해외법인을 포함하여 약 7조원의 시설투자를 할 것”이라고 26일 공시했다.

회사 측은 “주요 투자항목은 10나노급 DRAM 양산과 48단 및 72단 3D NAND 전개를 위한 투자와 중장기 경쟁력 강화를 위한 신규 클린룸 건설 및 관련 인프라 투자 등이다”고 밝혔다.