전기·전자
삼성·ASML, 차세대 반도체 동맹 강화···12인치 포토 마스크 공동개발
삼성전자가 네덜란드의 ASML과 협력해 차세대 반도체 노광 기술 확보에 나선다. 삼성전자는 ASML 주도의 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 12인치 포토마스크를 공동 개발하고 첨단 D램 제조에 High NA EUV를 2028년 도입할 계획이다. 포토마스크 기술 향상을 통해 생산성을 높이고 제조비용을 줄이려는 삼성전자는 ASML과의 협력을 강화해 차세대 반도체 제조 혁신을 이어가려 한다.





